今日共享的是：2024海外半导体设备巨子巡礼系列：详解光刻伟人ASML成功之微妙

　　《2024海外半导体设备巨子巡礼系列：详解光刻伟人ASML成功之微妙》由东吴证券发布，对ASML公司进行了深化剖析，首要内容如下：

　　- 开展进程与现状：ASML于1984年建立，历经40年开展，经过收买和技能创新成为全世界第一大IC光刻机厂商。2023年完成盈余收入276亿欧元，净利润78亿欧元。公司股权较为涣散，按地域看美国出资者占比较大。

　　- 产品布局与成绩：主营业务包含设备体系和已装置设备管理，设备体系中的IC前道光刻机是首要收入来历，可分为I-line、DUV、EUV光刻机。曩昔成绩稳健增加，未来成绩指引达观，方针2025 - 2030年营收继续增加。不一样光刻机出售均价逐年进步，2024H1光刻机ASP约为0.5亿欧元/台。

　　- 研制投入与产能规划：继续巨额的研制投入和快速扩张的本钱开支，2023年研制费用达40亿欧元，本钱开支达22亿欧元。方针2025 - 2026年DUV和EUV光刻机年产能别离进步到2022年的2.5倍和3倍。

　　- 光刻工艺：光刻机承当光刻工艺中的曝光过程，投影式光刻是当时IC光刻机干流技能，其间步进扫描式为投影式中的干流技能。光刻机的三大中心目标包含分辨率、套刻精度和产能。

　　- 技能迭代逻辑：光刻技能迭代环绕进步分辨率打开，根据瑞利原则，经过下降光源波长、进步物镜数值孔径、改善光刻工艺因子等方法完成。

　　- 产业链构成：掩盖很多上游组件和体系，以及中游配套设备和资料。上游包含光学组件、光源体系等，中游首要是掩模光刻机制作商，下流应用于IC制作等范畴。

　　- 中心部件剖析：光源体系、光学体系、双工件台是光刻机三大中心部件。光源供给简直由美国Cymer和日本Gigaphoton独占；光学体系中投影物镜技能难度极高，EUV投影物镜由德国蔡司独占；双工件台由ASML于2001年最早推出。

　　- 商场规模与竞赛态势：2023年全球IC光刻机商场规模挨近260亿美元，出现“一超双强”格式，ASML在DUV和EUV光刻机商场均占有主导地位。估计未来晶圆需求量开端上涨将带动光刻机需求进步。

　　- 客户结构与订单状况：台积电、三星电子、英特尔是ASML的前三大客户。2024H1来自中国大陆的营收和设备收入占比大起伏的进步，到24Q2末，仍有约80亿欧元的在手订单来自中国大陆。

　　- 技能抢先：前期凭仗PAS 5500、双工件台、浸没式、EUV四项技能完成赶超，现在各项目标引领职业。

　　- 生态完善：掌控光刻机三大中心部件供给，与全球头部晶圆厂深度协作，构筑起完善的生态网络。

　　- 资金雄厚：前期获头部客户股权出资，中后期在本身盈余及政府支撑下，继续投入研制、收买供给商。

　　- 开展现状与应战：现在国产光刻机完成自主可控的三大中心要素已具有，但技能端依然单薄，全体技能水平落后ASML约20 - 30年。

　　- 未来展望：上海微电子是国内技能抢先的光刻机研制单位，其IC前道光刻机可量产90nm制程，浸没式光刻机正加快研制。跟着大基金三期募资落地等，光刻机产业链有望取得资金支撑，继续打破技能瓶颈。